Revista de Química. Vol. 05 Núm. 1 (1991)

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Tabla de Contenido
Artículos
  • Pigmentos Delgado López, Miriam; Barrientos U., Amparo; Rómulo Ochoa Luna, Rómulo; 5-11
  • Reactividad del fenol en soluciones acuosas de nitrito de sodio en presencia de micelas de sulfato de dodecilo de sodio Squadrito, Giuseppe; Fernández Lamarque, María de Fátima; Pryor, William; 13-19
  • Velocidad de corrosión de aceros nacionales AISI 1010 en acido sulfúrico como medio agresivo Ugaz Lock, Alberto; 21-38
  • Actividad cicatrizante de cuatro especies de la zona del Huallaga Pérez, Eleucy; Jurupe, Hilda; Iparraguirre, Domingo; Villamil, Henry; Huapaya, Nancy; 39-45
  • La "Uña de gato" : su estudio científico Lock de Ugaz, Olga; Callo C., Ninosca; 47-53
  • Estudio fitoquímico de la Hyptis pectinata (L.) Point Giachetti B., Silvana; Pastor de Abram, Ana; 55-62
  • Los ácidos difosfónicos: usos y aplicaciones Borjas A., David; Gamboa F., Nadia; 63-70
  • Corrosividad del agua potable Räuchle, Fritz; Díaz Tang, Isabel; 71-81
  • La evolución química y el surgimiento de la vida sobre la tierra Dioses Castro, Silvio; 83-90

    • Investigación Química
  • Investigación Química Comité editorial de Revista de Química; 93-103

    • Noticias Quimicas
  • Noticias Quimicas Comité editorial de Revista de Química; 107-110

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      Actividad cicatrizante de cuatro especies de la zona del Huallaga
      (Pontificia Universidad Católica del Perú, 1991) Pérez, Eleucy; Jurupe, Hilda; Iparraguirre, Domingo; Villamil, Henry; Huapaya, Nancy
      Se estudiarán botánica y farmacológicamente 4 especies con actividad cicatrizante, con el fin primeramente de clasificarlas en forma adecuada tomando en consideración caracteres morfológicos e histológicos realizando luego las pruebas biológicas correspondientes, cuyos resultados obtenidos se comparan en un cuadro general, caracterizando la especie de mayor efectividad.
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      Estudio fitoquímico de la Hyptis pectinata (L.) Point
      (Pontificia Universidad Católica del Perú, 1991) Giachetti B., Silvana; Pastor de Abram, Ana
      Los circuitos que forman parte de cualquier instrumento electrónico son cada vez más eficientes, pero al mismo tiempolas dimensiones de sus componentes son constantemente reducidas y se están aproximando a la escala atómica. Cadacomponente debe ser cuidadosamente depositado como una película fina sobre una superficie, lo cual, en la escala atómica,es posible sólo si las reacciones químicas involucradas son entendidas y controladas. El presente artículo inicialmentedescribe las técnicas de formación de películas finas sobre un substrato, enfatizando la actual importanci a del uso decompuestos organometálicos durante este proceso. Por ejemplo, uno de estos compuestos, tetraquis-(dimetilamido)-titanio(IV),Ti[N(CH3)2]4, es usado, conjuntamente con amoníaco (NH3), en la formación de películas de nitruro de titanio. La reacciónde ambos compuestos con una superficie de silicio es investigada, encontrándose que en ambos casos la reacción empieza por medio de la interacción del par electrónico libre del átomo de nitrógeno con la superficie, luego de lo cual las moléculas son disociadas. Una reacción de intercambio de ligandos en Ti[N(CH3)2]4, conocida como transaminación, es posible sobre una superficie cubierta con NH . La elucidación de estos mecanismos no solo es importante para un mayor control del proceso de deposición de películas delgadas, sino también para el naciente campo de electrónica molecular, donde la formación de arquitecturas moleculares en la superficie es un requisito. Este artículo incluye además una breve revisión de tópicos selectos en química de superficies relacionados con la presente investigación, tales como los tipos de reacciones sobre superficies, propiedades de la superficie de silicio y el uso de técnicas espectroscópicas y computacionales en esta área de la química.