Show simple item record

dc.contributor.advisorDávalos Pinto, José Amadeo
dc.contributor.authorCalderón Chavarri, Jesús Alan
dc.date.accessioned2012-11-06T18:37:35Z
dc.date.available2012-11-06T18:37:35Z
dc.date.created2012-11-06T18:37:35Z
dc.date.issued2012-11-06
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.12404/1587
dc.description.abstractEste trabajo de tesis muestra el diseño del control de temperatura del portasustrato de la cámara de alto vacío del Laboratorio de Ciencia de los Materiales de la Sección Física de la PUCP. Para estudiar las propiedades físicas, químicas y ópticas de las películas semiconductoras delgadas elaboradas dentro de la cámara, los investigadores retiran las películas a un horno externo fuera de la cámara; sometiéndolas a altas temperaturas. Por ello es un requerimiento realizar el control de temperatura del portasustrato, el cual sostiene al sustrato donde se depositan las películas semiconductoras, dentro de la cámara de alto vacío. Por tal necesidad se diseñó el control de temperatura del portasustrato, para lo cual se realizaron pruebas en una placa térmica que transfiere calor al portasustrato de la cámara, debido al Efecto Joule, en una resistencia eléctrica de 50 Ohmios y capaz de proporcionar 1200W de potencia eléctrica; esta resistencia está en el interior de la placa térmica. Posicionando adecuadamente el sensor de temperatura (termocupla) y mediante el algoritmo de control diseñado (Proporcional e Integral) por el modelo de Ziegler and Nichols, se logró satisfactoriamente el control de temperatura del portasustrato de la cámara de alto vacío para el Laboratorio de Ciencia de los Materiales de la PUCP, con un error menor a 2°C. Fue necesario conocer en qué rangos de temperatura el portasustrato tiene un comportamiento lineal entre la señal de entrada y la temperatura monitoreada, en un experimento realizado en lazo abierto para así conocer las funciones de transferencia que se puedan obtener y poder realizar el control de temperatura en el rango de trabajo del portasustrato.
dc.language.isospa
dc.publisherPontificia Universidad Católica del Perú
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/
dc.rightsAtribución-NoComercial-SinDerivadas 2.5 Perú
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.sourcePontificia Universidad Católica del Perú
dc.sourceRepositorio de Tesis - PUCP
dc.subjectControl de la temperatura
dc.subjectSistemas electrónicos--Diseño y construcción
dc.subjectTecnología del vacío
dc.subjectLabVIEW (Lenguaje de programación para computadoras)
dc.titleDiseño del control de la temperatura del portasustrato de una cámara de alto vacío para elaborar películas semiconductoras delgadas
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesis
thesis.degree.nameIngeniero Electrónicoes_ES
thesis.degree.levelTítulo Profesionales_ES
thesis.degree.grantorPontificia Universidad Católica del Perú. Facultad de Ciencias e Ingenieríaes_ES
thesis.degree.disciplineIngeniería Electrónicaes_ES
dc.type.otherTesis de licenciatura
dc.publisher.countryPE
renati.discipline712026es_ES
renati.levelhttps://purl.org/pe-repo/renati/level#tituloProfesionales_ES
renati.typehttp://purl.org/pe-repo/renati/type#tesises_ES


Files in this item

FilesSizeFormatView

There are no files associated with this item.

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record