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Ítem Texto completo enlazado Diseño de un sistema de reconstrucción de volúmenes de troncos de madera por ultrasonido para la optimización del proceso de corte en aserraderos(Pontificia Universidad Católica del Perú, 2014-08-01) Rojas Malásquez, Royer; Carrera Soria, Willy EduardoEl presente trabajo tiene como propósito contribuir a la solución de la ineficiencia del proceso de corte llevado a cabo en los aserraderos nacionales. Dicha ineficiencia es ocasionada mayormente debido a la selección de un esquema de corte inapropiado, lo cual se traduce en pérdidas de materia prima que alcanzan incluso el 50%. En tal sentido, se hace necesario un proceso que permita reducir las pérdidas de materia prima, de tal manera que además de mejorar la rentabilidad de las empresas madereras, esto evite que un gran número de árboles sean talados de forma innecesaria, contribuyendo al mismo tiempo a reducir la deforestación de los bosques madereros y a la conservación del ecosistema del planeta. Un proceso completo de optimización de corte de troncos de madera estaría conformado por tres etapas: diseño de un sistema que permita reproducir el volumen de los troncos de madera, desarrollo de un algoritmo computacional para hallar el esquema de corte más apropiado, y finalmente la integración de los dos ítems anteriores. La presente tesis se avoca únicamente a la primera de las tres etapas citadas anteriormente. A este sistema se le denominará en adelante: sistema de reconstrucción de volúmenes. El sistema de reconstrucción de volúmenes, debido a su naturaleza, estaría conformado por tres partes: parte mecánica, parte hardware y parte software. El diseño de la parte mecánica escapa a los objetivos de la presente tesis, razón por la cual no será tratada en el presente trabajo, y se limitará sólo a una breve descripción de la misma. A cambio de esto, se prestará mayor atención en el diseño de la parte hardware y la parte software. El presente trabajo se encuentra estructurado de la siguiente forma: Capítulo 1: El proceso de corte de madera en los aserraderos nacionales y sus problemáticas. Capítulo 2: Estado del Arte. Capítulo 3: Diseño de los módulos componentes del sistema de reconstrucción de volúmenes. Capítulo 4: Simulación de los módulos componentes del sistema de reconstrucción de volúmenes.Ítem Texto completo enlazado Automatización de los procesos de plasma y evaporación en la elaboración de películas semiconductoras delgadas(Pontificia Universidad Católica del Perú, 2014-06-06) Rojas Mendoza, Jorge Enrique; Carrera Soria, Willy EduardoEn el presente trabajo de tesis se realizó el diseño e implementación de un sistema que tiene como objetivo ofrecer al usuario la posibilidad de aumentar o disminuir el nivel de voltaje o corriente de los procesos de creación de Plasma y Evaporación mediante el control electrónico de tres transformadores de potencia (uno de voltaje y dos de corriente). Este trabajo representa un punto de partida para la automatización completa de la elaboración de películas delgadas en el Laboratorio de Películas Delgadas de la Sección de Física de la Pontificia Universidad Católica del Perú. Anteriormente, los procesos de creación de Plasma y Evaporación eran efectuados manualmente por un operario, el cual debía permanecer cerca del sistema de alto vacío hasta el término del proceso. Por otro lado, el método de ejecución de estos procesos no era constante en su totalidad. Ello tenía un efecto negativo con respecto a la calidad y eficiencia en la elaboración de películas delgadas. En principio el operario selecciona el proceso que se va a efectuar, ya sea el de creación de Plasma o el de Evaporación, a partir de ello el sistema detecta cuál se está realizando e inmediatamente lleva el voltaje o la corriente a su mínimo valor, enseguida comienza el sensado de la variable correspondiente, dependiendo del proceso. De acuerdo al valor en que se encuentre, se podrá aumentar o disminuir el nivel de voltaje o corriente, teniendo en cuenta los límites máximos y mínimos, a través de dos pulsadores ubicados en el tablero de control. Como resultado se pudo llegar a obtener un rango de error menor al 2% en la medición de voltaje para el proceso de creación de Plasma y menor al 3% en la medición de corriente para el proceso de Evaporación.